Ex situ and in situ methods for oxide and carbon removal from AlN and GaN surfaces

被引：21

作者：

King, SW ^{[1
]}

Smith, LL ^{[1
]}

Barnak, JP ^{[1
]}

Ku, JH ^{[1
]}

Christman, JA ^{[1
]}

Benjamin, MC ^{[1
]}

Bremser, MD ^{[1
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Nemanich, RJ ^{[1
]}

Davis, RF ^{[1
]}

机构：

[1] N CAROLINA STATE UNIV,DEPT MAT SCI & ENGN,RALEIGH,NC 27695

来源：

GALLIUM NITRIDE AND RELATED MATERIALS | 1996年 / 395卷

关键词：

D O I：

10.1557/PROC-395-739

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：739 / 744

页数：6