Room temperature operation of Si single-electron memory with self-aligned floating dot gate

被引:18
作者
Nakajima, A
Futatsugi, T
Kosemura, K
Fukano, T
Yokoyama, N
机构
来源
IEDM - INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING, TECHNICAL DIGEST 1996 | 1996年
关键词
D O I
10.1109/IEDM.1996.554140
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:952 / 954
页数:3
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