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E-beam tandem writes short pitch DOEs and gratings for EU-922 FOTA and other optical microsystems
被引：1
作者：
Kley, EB
[1
]
Parriaux, O
[1
]
机构：
[1] UNIV JENA,INST ANGEW PHYS,D-07743 JENA,GERMANY
来源：
MICRO-OPTICAL TECHNOLOGIES FOR MEASUREMENT, SENSORS, AND MICROSYSTEMS
|
1996年
/
2783卷
关键词：
e-beam writing;
diffractive optical elements;
gratings;
continuous profiles;
multilevel profiles;
smooth lines;
D O I：
10.1117/12.248504
中图分类号：
O43 [光学];
学科分类号：
070207 ;
0803 ;
摘要：
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页码：146 / 153
页数：8
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