Toward accurate linewidth metrology using atomic force microscopy and tip characterization

被引：8

作者：

Dixson, R ^{[1
]}

Schneir, J ^{[1
]}

McWaid, T ^{[1
]}

Sullivan, N ^{[1
]}

Tsai, VW ^{[1
]}

Zaidi, SH ^{[1
]}

Brueck, SRJ ^{[1
]}

机构：

[1] NIST,GAITHERSBURG,MD 20899

来源：

METROLOGY, INSPECTION, AND PROCESS CONTROL FOR MICROLITHOGRAPHY X | 1996年 / 2725卷

关键词：

SPM; AFM; CD; standards; metrology; tip characterization;

D O I：

10.1117/12.240131

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

页码：589 / 607

页数：19