Practical topography design for alternating phase-shifting mask

被引：10

作者：

Tanaka, S ^{[1
]}

Nakamura, H ^{[1
]}

Kawano, K ^{[1
]}

Inoue, S ^{[1
]}

机构：

[1] TOSHIBA CO LTD,R&D CTR,ULSI RES LABS,SAIWAI KU,KAWASAKI,KANAGAWA 210,JAPAN

来源：

OPTICAL MICROLITHOGRAPHY IX | 1996年 / 2726卷

关键词：

alternating phase-shifting mask; topographical effect; TDFDM; ED tree; dual-trench structure; effective transmission and phase;

D O I：

10.1117/12.240919

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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页数：12