An integrated low resistance aluminum plug and low-k polymer dielectric for high performance 0.25 mu m interconnects

被引：4

作者：

Dixit, GA ^{[1
]}

Taylor, KJ ^{[1
]}

Singh, A ^{[1
]}

Lee, CK ^{[1
]}

Shinn, GB ^{[1
]}

Konecni, A ^{[1
]}

Hsu, WY ^{[1
]}

Brennan, K ^{[1
]}

Chang, MC ^{[1
]}

Havemann, RH ^{[1
]}

机构：

[1] TEXAS INSTRUMENTS INC,CTR SEMICOND PROC & DEVICE,DALLAS,TX 75265

来源：

1996 SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY: DIGEST OF TECHNICAL PAPERS | 1996年

关键词：

D O I：

10.1109/VLSIT.1996.507803

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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