Measurement of a CD and sidewall angle artifact with two dimensional CD AFM metrology

被引：7

作者：

Dixson, R ^{[1
]}

Sullivan, N ^{[1
]}

Schneir, J ^{[1
]}

McWaid, T ^{[1
]}

Tsai, VW ^{[1
]}

Prochazka, J ^{[1
]}

Youngs, M ^{[1
]}

机构：

[1] NIST,GAITHERSBURG,MD 20899

来源：

METROLOGY, INSPECTION, AND PROCESS CONTROL FOR MICROLITHOGRAPHY X | 1996年 / 2725卷

关键词：

SPM; AFM; CD; standards; metrology;

D O I：

10.1117/12.240113

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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页数：17