High resolution deep UV laser mask repair based on near-field optical technology

被引：5

作者：

Lieberman, K ^{[1
]}

Terkel, H ^{[1
]}

Rudman, M ^{[1
]}

Ignatov, A ^{[1
]}

Lewis, A ^{[1
]}

机构：

[1] NANON LITHOG LTD,IL-91487 MALHA JERUSALEM,ISRAEL

来源：

PHOTOMASK AND X-RAY MASK TECHNOLOGY III | 1996年 / 2793卷

关键词：

D O I：

10.1117/12.245238

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

页码：481 / 488

页数：8