Focus and exposure dose determination using stepper alignment

被引：6

作者：

Dirksen, P ^{[1
]}

Pellens, R ^{[1
]}

Juffermans, C ^{[1
]}

ReuhmanHuisken, M ^{[1
]}

vanderLaan, H ^{[1
]}

机构：

[1] PHILIPS RES LABS,NL-5656 AA EINDHOVEN,NETHERLANDS

来源：

OPTICAL MICROLITHOGRAPHY IX | 1996年 / 2726卷

关键词：

optical lithography; focus; exposure dose; latent image; metrology; alignment;

D O I：

10.1117/12.240941

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

页码：799 / 808

页数：10