The impact of optical enhancement techniques on the Mask error enhancement function (MEEF)

被引：14

作者：

Plat, M ^{[1
]}

Nguyen, K ^{[1
]}

Spence, C ^{[1
]}

Lyons, C ^{[1
]}

Wilkison, A ^{[1
]}

机构：

[1] Adv Micro Devices Inc, Sunnyvale, CA 94087 USA

来源：

OPTICAL MICROLITHOGRAPHY XIII, PTS 1 AND 2 | 2000年 / 4000卷

关键词：

D O I：

10.1117/12.389009

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：206 / 214

页数：9