Three-dimensional additive electron-beam lithography

被引：2

作者：

Koops, HWP ^{[1
]}

Weber, M ^{[1
]}

Schossler, C ^{[1
]}

Kaja, A ^{[1
]}

机构：

[1] DEUTSCHE TELEKOM AG,FORSCH & TECHNOL ZENTRUM,D-64295 DARMSTADT,GERMANY

来源：

METAL/NONMETAL MICROSYSTEMS: PHYSICS, TECHNOLOGY, AND APPLICATIONS | 1996年 / 2780卷

关键词：

three dimensional; additive lithography; electron-beam induced deposition; nanocrystalline tips; tip-array; supertip; field emission; micro-tube; photon crystal; nanostructures; coulomb blockade;

D O I：

10.1117/12.238195

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：388 / 395

页数：8