Geometrical library recognition for mask data compression

被引：7

作者：

Veltman, R ^{[1
]}

Ashida, I ^{[1
]}

机构：

[1] SONY SEMICOND AMER DESIGN ENGN,SAN JOSE,CA 95134

来源：

PHOTOMASK AND X-RAY MASK TECHNOLOGY III | 1996年 / 2793卷

关键词：

EB data processing; EB data compression;

D O I：

10.1117/12.245219

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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页数：9