Laminated high-aspect-ratio microstructures in a conventional CMOS process

被引：50

作者：

Fedder, GK ^{[1
]}

Santhanam, S ^{[1
]}

Reed, ML ^{[1
]}

Eagle, SC ^{[1
]}

Guillou, DF ^{[1
]}

Lu, MSC ^{[1
]}

Carley, LR ^{[1
]}

机构：

[1] CARNEGIE MELLON UNIV,DEPT ELECT & COMP ENGN,PITTSBURGH,PA 15213

来源：

NINTH ANNUAL INTERNATIONAL WORKSHOP ON MICRO ELECTRO MECHANICAL SYSTEMS, IEEE PROCEEDINGS: AN INVESTIGATION OF MICRO STRUCTURES, SENSORS, ACTUATORS, MACHINES AND SYSTEMS | 1996年

关键词：

D O I：

10.1109/MEMSYS.1996.493822

中图分类号：

TP [自动化技术、计算机技术];

学科分类号：

0812 ;

摘要：

引用

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