Chemical-mechanical polishing: Enhancing the manufacturability of MEMS

被引：24

作者：

Sniegowski, JJ ^{[1
]}

机构：

[1] SANDIA NATL LABS,INTELLIGENT MICROMACHINES DEPT,ALBUQUERQUE,NM 87185

来源：

MICROMACHINING AND MICROFABRICATION PROCESS TECHNOLOGY II | 1996年 / 2879卷

关键词：

surface micromachining; polysilicon; microelectromechanical systems; chemical mechanical polishing; planarization;

D O I：

10.1117/12.251237

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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