High performance BiCMOS process integration: Trends, issues, and future directions

被引：10

作者：

Harame, D ^{[1
]}

机构：

[1] IBM Corp, Microelect Div, Essex Junction, VT 05452 USA

来源：

PROCEEDINGS OF THE 1997 BIPOLAR/BICMOS CIRCUITS AND TECHNOLOGY MEETING | 1997年

关键词：

D O I：

10.1109/BIPOL.1997.647351

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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