Feasibility demonstration of 0.18 mu m and 0.13 mu m optical projection lithography based on CD control calculations

被引：2

作者：

Kim, KH ^{[1
]}

Ronse, K ^{[1
]}

Yen, A ^{[1
]}

VandenHove, L ^{[1
]}

机构：

[1] IMEC,B-3001 LOUVAIN,BELGIUM

来源：

1996 SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY: DIGEST OF TECHNICAL PAPERS | 1996年

关键词：

D O I：

10.1109/VLSIT.1996.507846

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页数：2