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被引:6
作者
:
BLECH, IA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
BLECH, IA
机构
:
来源
:
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
|
1972年
/ 43卷
/ 02期
关键词
:
D O I
:
10.1063/1.1661204
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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页码:762 / &
相关论文
共 1 条
[1]
ELECTROMIGRATION IN THIN AL FILMS
[J].
BLECH, IA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
Fairchild Semiconductor, Research and Development Laboratory, Palo Alto
BLECH, IA
;
MEIERAN, ES
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
Fairchild Semiconductor, Research and Development Laboratory, Palo Alto
MEIERAN, ES
.
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1969,
40
(02)
:485
-&
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共 1 条
[1]
ELECTROMIGRATION IN THIN AL FILMS
[J].
BLECH, IA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
Fairchild Semiconductor, Research and Development Laboratory, Palo Alto
BLECH, IA
;
MEIERAN, ES
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
Fairchild Semiconductor, Research and Development Laboratory, Palo Alto
MEIERAN, ES
.
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1969,
40
(02)
:485
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