APPLICATION OF CHLORINATED POLYMETHYLSTYRENE, CPMS, TO ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY

被引：22

作者：

KAMOSHIDA, Y

KOSHIBA, M

YOSHIMOTO, H

HARITA, Y

HARADA, K

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1983年 / 1卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.582656

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页码：1156 / 1159

页数：4

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共 6 条

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