PLASMA-ETCHING OF SIALON

被引：8

作者：

CHATFIELD, C ^{[1
]}

NORSTROM, H ^{[1
]}

机构：

[1] INST MICROWAVE TECHNOL,S-10044 STOCKHOLM,SWEDEN

来源：

关键词：

D O I：

10.1111/j.1151-2916.1983.tb10630.x

中图分类号：

TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：C168 / C168

页数：1

共 9 条

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