CONTACT LITHOGRAPHY AT 157 NM WITH AN F2 EXCIMER LASER

被引：33

作者：

CRAIGHEAD, HG

WHITE, JC

HOWARD, RE

JACKEL, LD

BEHRINGER, RE

SWEENEY, JE

EPWORTH, RW

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1983年 / 1卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.582758

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页码：1186 / 1189

页数：4

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[1] COPOLYMERS OF METHYL-METHACRYLATE AND METHACRYLIC-ACID AND THEIR METAL-SALTS AS RADIATION SENSITIVE RESISTS [J].

HALLER, I ;

FEDER, R ;

HATZAKIS, M ;

SPILLER, E .

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1979, 126 (01) :154-161

[2]

Jain K., 1982, 1982 Symposium on VLSI Technology. Digest of Papers, P92

[3]

JAIN K, 1982, APPL PHYS B-PHOTO, V28, P206