HEAT-SOURCE POWER REQUIREMENTS FOR HIGH-QUALITY RECRYSTALLIZATION OF THIN SILICON FILMS FOR ELECTRONIC DEVICES

被引：9

作者：

MIAOULIS, IN ^{[1
]}

MIKIC, BB ^{[1
]}

机构：

[1] MIT,DEPT MECH ENGN,CAMBRIDGE,MA 02139

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.336480

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1658 / 1662

页数：5

共 6 条

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