CONTOUR DEPOSITION - A NEW EPITAXIAL DEPOSITION TECHNIQUE FOR SEMICONDUCTOR DEVICES AND INTEGRATED CIRCUITS

被引：5

作者：

KLEIN, T

机构：

来源：

SOLID-STATE ELECTRONICS | 1966年 / 9卷 / 10期

关键词：

D O I：

10.1016/0038-1101(66)90072-4

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页码：959 / &

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