BIAS-DEPENDENT ETCHING OF SILICON IN AQUEOUS KOH

被引：133

作者：

GLEMBOCKI, OJ ^{[1
]}

STAHLBUSH, RE ^{[1
]}

TOMKIEWICZ, M ^{[1
]}

机构：

[1] CUNY BROOKLYN COLL,DEPT PHYS,BROOKLYN,NY 11210

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2113750

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：145 / 151

页数：7

共 31 条

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