EFFECT OF POST-DEPOSITION VACUUM ANNEALING ON PROPERTIES OF ITO LAYERS

被引：16

作者：

LIBRA, M ^{[1
]}

BARDOS, L ^{[1
]}

机构：

[1] CZECHOSLOVAK ACAD SCI,INST PHYS,CS-18040 PRAGUE 8,CZECHOSLOVAKIA

来源：

VACUUM | 1988年 / 38卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1016/0042-207X(88)90587-8

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

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页码：455 / 457

页数：3

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共 6 条

[1] AVARITSIOTIS JN, 1987, MAY P IPAT 87 BRIGHT, P422
[2] TRANSPARENT CONDUCTORS - A STATUS REVIEW
CHOPRA, KL
MAJOR, S
PANDYA, DK
[J]. THIN SOLID FILMS, 1983, 102 (01) : 1 - 46
[3] LEWIN RW, 1987, MAY P IPAT 87 BRIGHT, P464
[4] LHRIVNAK V, 1978, TEORIA TUHYCH LATOK
[5] SRUNIVAC K, 1985, APPL SURF SCI, V22, P670
[6] 1984, 17TH P IEEE PHOT SPE, P939