ANALYSIS OF SPUTTER DEPOSITED AND EVAPORATED TANTALUM OXIDE LAYERS ON SIO2 BY SNMS, XPS, TDS AND TRFA

被引：6

作者：

MULLER, KH ^{[1
]}

RUPERTUS, V ^{[1
]}

OECHSNER, H ^{[1
]}

SCHEUER, V ^{[1
]}

TSCHUDI, T ^{[1
]}

机构：

[1] TH DARMSTADT,INST ANGEW PHYS,D-6100 DARMSTADT,FED REP GER

来源：

FRESENIUS ZEITSCHRIFT FUR ANALYTISCHE CHEMIE | 1989年 / 333卷 / 4-5期

关键词：

D O I：

10.1007/BF00572362

中图分类号：

O65 [分析化学];

学科分类号：

070302 ; 081704 ;

摘要：

引用

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页数：4