PLANAR INSB PHOTODIODES FABRICATED BY BE AND MG ION-IMPLANTATION

被引:52
作者
HURWITZ, CE [1 ]
DONNELLY, JP [1 ]
机构
[1] MIT,LINCOLN LAB,LEXINGTON,MA 02173
关键词
D O I
10.1016/0038-1101(75)90152-5
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:753 / 756
页数:4
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