DSC STUDIES OF GLASSY BEHAVIOR IN P-DOPED A-SI-H

被引：11

作者：

MATSUO, S ^{[1
]}

NASU, H ^{[1
]}

AKAMATSU, C ^{[1
]}

HAYASHI, R ^{[1
]}

IMURA, T ^{[1
]}

OSAKA, Y ^{[1
]}

机构：

[1] HIROSHIMA UNIV,FAC ENGN,DEPT ELECT ENGN,HIROSHIMA 724,JAPAN

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS | 1988年 / 27卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.27.L132

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L132 / L133

页数：2

共 6 条

[1]

DOUGLAS RW, 1972, AMORPHOUS MATERIALS

[2] NEW MODE OF PLASMA DEPOSITION IN A CAPACITIVELY COUPLED REACTOR [J].

HAMASAKI, T ;

UEDA, M ;

CHAYAHARA, A ;

HIROSE, M ;

OSAKA, Y .

[3]

Maurer J. J., 1965, RUBBER CHEM TECHNOL, V38, P979, DOI 10.5254/1.3535715

[4]

SAKKA S, 1983, SCI GLASS AMORPHOUS, P251

[5] THERMAL-EQUILIBRIUM PROCESSES IN AMORPHOUS-SILICON [J].

STREET, RA ;

KAKALIOS, J ;

TSAI, CC ;

HAYES, TM .

PHYSICAL REVIEW B, 1987, 35 (03) :1316-1333

[6]

Strella S., 1963, J APPL POLYM SCI, V7, P569