SPUTTERING INDUCED TOPOGRAPHY DEVELOPMENT ON FCC METALS

被引:42
作者
CARTER, G [1 ]
NOBES, MJ [1 ]
WHITTON, JL [1 ]
机构
[1] UNIV SALFORD,THIN FILM & SURFACE RES CTR,SALFORD M5 4WT,LANCS,ENGLAND
来源
APPLIED PHYSICS A-MATERIALS SCIENCE & PROCESSING | 1985年 / 38卷 / 02期
关键词
D O I
10.1007/BF00620458
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页数:19
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