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DEFECT DYNAMICS AND WEAR-OUT IN THIN SILICON-OXIDES
被引：42
作者：
FARMER, KR
BUHRMAN, RA
机构：
关键词：
D O I：
10.1088/0268-1242/4/12/011
中图分类号：
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ;
0809 ;
摘要：
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页码：1084 / 1105
页数：22
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