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RADIATION EFFECTS ON MOS DEVICES - DOSIMETRY, ANNEALING, IRRADIATION SEQUENCE, AND SOURCES
被引:9
作者
:
STASSINOPOULOS, EG
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RCA CORP LABS,DAVID SARNOFF RES CTR,PRINCETON,NJ 08540
STASSINOPOULOS, EG
BRUCKER, GJ
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机构:
RCA CORP LABS,DAVID SARNOFF RES CTR,PRINCETON,NJ 08540
BRUCKER, GJ
VANGUNTEN, O
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机构:
RCA CORP LABS,DAVID SARNOFF RES CTR,PRINCETON,NJ 08540
VANGUNTEN, O
KNUDSON, AR
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机构:
RCA CORP LABS,DAVID SARNOFF RES CTR,PRINCETON,NJ 08540
KNUDSON, AR
JORDAN, TM
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机构:
RCA CORP LABS,DAVID SARNOFF RES CTR,PRINCETON,NJ 08540
JORDAN, TM
机构
:
[1]
RCA CORP LABS,DAVID SARNOFF RES CTR,PRINCETON,NJ 08540
[2]
USN,RES LAB,WASHINGTON,DC 20375
[3]
NATL SECUR AGCY,FT MEADE,MD
[4]
EXPTL & MATH PHYS CONSULTANTS,SIMI VALLEY,CA
来源
:
IEEE TRANSACTIONS ON NUCLEAR SCIENCE
|
1983年
/ 30卷
/ 03期
关键词
:
D O I
:
10.1109/TNS.1983.4332665
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
引用
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页码:1880 / 1884
页数:5
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