AN ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM FOR SUB-MICRON VHSIC DEVICE FABRICATION

被引：20

作者：

KING, HJ ^{[1
]}

MERRITT, PE ^{[1
]}

OTTO, OW ^{[1
]}

OZDEMIR, FS ^{[1
]}

PASIECZNIK, J ^{[1
]}

CARROLL, AM ^{[1
]}

CAVAN, DL ^{[1
]}

ECKES, W ^{[1
]}

LIN, LH ^{[1
]}

VENEKLASEN, L ^{[1
]}

WIESNER, JC ^{[1
]}

机构：

[1] PERKIN ELMER CORP,HAYWARD,CA 94545

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1985年 / 3卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.583189

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：106 / 111

页数：6