ION-BEAM SPUTTER DEPOSITION OF THIN INSULATING LAYERS FOR APPLICATIONS IN HIGHLY LOADED CONTACTS

被引：5

作者：

KONIGER, ME ^{[1
]}

REITHMEIER, G ^{[1
]}

SIMON, M ^{[1
]}

机构：

[1] TECH UNIV MUNICH,FORSCHUNGSSTELLE ZAHNRADER & GETRIEBEBAU,D-8000 MUNICH 2,FED REP GER

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(83)90027-5

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：19 / 25

页数：7

共 15 条

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