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INVESTIGATIONS OF X-RAY-EXPOSURE USING PLANE SCANNING MIRRORS
被引:13
作者
:
BIEBER, M
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BIEBER, M
SCHEUNEMANN, HU
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SCHEUNEMANN, HU
BETZ, H
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BETZ, H
HEUBERGER, A
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HEUBERGER, A
机构
:
来源
:
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
|
1983年
/ 1卷
/ 04期
关键词
:
D O I
:
10.1116/1.582727
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
引用
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页码:1271 / 1275
页数:5
相关论文
共 5 条
[1]
BIEBER M, INT XRAY VUV SYNCHRO
[2]
BOLLER K, 1982, DESY SR8218 TECHN RE
[3]
Compton A.H., 1935, XRAYS THEORY EXPT
[4]
HENKE BL, 1959, AFOSR TN59895 TECHN
[5]
SILVERMAN JP, 1983, 2 SPIE C E BEAM XRAY
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共 5 条
[1]
BIEBER M, INT XRAY VUV SYNCHRO
[2]
BOLLER K, 1982, DESY SR8218 TECHN RE
[3]
Compton A.H., 1935, XRAYS THEORY EXPT
[4]
HENKE BL, 1959, AFOSR TN59895 TECHN
[5]
SILVERMAN JP, 1983, 2 SPIE C E BEAM XRAY
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