未找到相关数据
A HOLLOW-CATHODE FOR ION-BEAM PROCESSING PLASMA SOURCES
被引：1
作者：
ASTON, G
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
|
1983年
/
1卷
/
02期
关键词：
D O I：
10.1116/1.572108
中图分类号：
TB3 [工程材料学];
学科分类号：
0805 ;
080502 ;
摘要：
引用
收藏
页码：258 / 259
页数：2
相关论文