INFLUENCE OF ION-BOMBARDMENT ON PROPERTIES OF VACUUM-EVAPORATED THIN-FILMS

被引：11

作者：

DUDONIS, J ^{[1
]}

PRANEVICIUS, L ^{[1
]}

机构：

[1] POLYTECH INST,KAUNAS,LISSR

来源：

THIN SOLID FILMS | 1976年 / 36卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(76)90417-X

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

收藏

页码：117 / 120

页数：4

相关论文

共 3 条

[1] CONDUCTION IN METAL-OXIDE THIN-FILMS FORMED BY OXYGEN ION IMPLANTATION
PERKINS, JG
[J]. THIN SOLID FILMS, 1972, 9 (02) : 257 - &
[2] SHKLOVSKII BE, 1973, FIZ TEKH POLUPROVODN, V7, P113
[3] SOME PRELIMINARY STUDIES OF STRUCTURE OF ION BOMBARDED THIN-FILMS
STROUD, PT
LINDSAY, HM
PERKINS, JG
[J]. VACUUM, 1973, 23 (04) : 125 - 130