EL3 SYSTEM FOR QUARTER-MICRON ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY

被引：13

作者：

GROVES, TR ^{[1
]}

PFEIFFER, HC ^{[1
]}

NEWMAN, TH ^{[1
]}

HOHN, FJ ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1988年 / 6卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.584123

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：2028 / 2032

页数：5

共 17 条

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