TOPOLOGY OF OBLIQUELY COATED SILICON MONOXIDE LAYERS

被引：28

作者：

POLLACK, JM ^{[1
]}

HAAS, WE ^{[1
]}

ADAMS, JE ^{[1
]}

机构：

[1] XEROX CORP,WEBSTER RES CTR,WEBSTER,NY 14580

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.323637

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：831 / 833

页数：3

共 8 条

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