ELECTRICAL RESISTANCE OF IRON FILMS DEPOSITED AT LIQUID NITROGEN TEMPERATURE

被引：1

作者：

KATO, M

HORIKOSHI, H

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1965年 / 4卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.4.326

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：326 / +

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共 1 条

[1] The irreversible changes of the electrical resistance of the mid light reflectivity of low temperature condensed antimony, Arson, tellurium, iron and silver layers [J].

Suhrmann, R. ;

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ZEITSCHRIFT FUR PHYSIK, 1940, 115 (1-2) :17-46