LINEWIDTH VARIATIONS IN PHOTORESIST PATTERNS ON PROFILED SURFACES

被引：42

作者：

WIDMANN, DW ^{[1
]}

BINDER, H ^{[1
]}

机构：

[1] SIEMENS,ZENT FORSCH & ENTWICKLUNG FORSCH LAB,POSTFACH 70 00 76,D-8000 MUNICH,FED REP GER

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/T-ED.1975.18163

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：467 / 471

页数：5

共 10 条

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