KIRKENDALL STUDY OF ELECTROMIGRATION IN THIN-FILMS

被引:14
作者
HO, PS
LEWIS, JE
HOWARD, JK
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
[2] IBM CORP,SYST PROD DIV,E FISHKILL,NY 12533
关键词
D O I
10.1016/0040-6090(75)90050-4
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:301 / 315
页数:15
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