HOLOGRAPHIC LITHOGRAPHY WITH THICK PHOTORESIST

被引：78

作者：

ANDERSON, EH

HORWITZ, CM

SMITH, HI

机构：

来源：

APPLIED PHYSICS LETTERS | 1983年 / 43卷 / 09期

关键词：

D O I：

10.1063/1.94533

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：874 / 875

页数：2

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共 3 条

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ECONOMOU, NP
BEZJIAN, K
DANA, SS
SMITH, HI
[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1981, 19 (04): : 1234 - 1237
[2] LEZEC H, UNPUB
[3] OTOOLE M, 1981, 6 P SPIE C SEM MICR, V275, P128