INSITU MONITORING DURING ION-BEAM PROCESSING OF MULTILAYER EPITAXIAL III-V DEVICE STRUCTURES

被引:5
作者
WEBB, AP
机构
关键词
D O I
10.1088/0268-1242/2/7/013
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
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页码:463 / 465
页数:3
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