FABRICATION OF SUBMICRON POLYSILICON LINES BY CONVENTIONAL TECHNIQUES

被引：6

作者：

NICHOLAS, KH ^{[1
]}

BROCKMAN, HE ^{[1
]}

STEMP, IJ ^{[1
]}

机构：

[1] MULLARD RES LABS,REDHILL,SURREY,ENGLAND

来源：

APPLIED PHYSICS LETTERS | 1975年 / 26卷 / 07期

关键词：

D O I：

10.1063/1.88192

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：398 / 399

页数：2

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共 1 条

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BOHG, A
[J]. JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1971, 118 (02) : 401 - &