未找到相关数据
CAPACITANCE-VOLTAGE PROPERTIES OF THIN TA2O5 FILMS ON SILICON
被引：24
作者：
OEHRLEIN, GS
机构：
[1] IBM, Yorktown Heights, NY, USA, IBM, Yorktown Heights, NY, USA
关键词：
D O I：
10.1016/0040-6090(88)90315-X
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
18
引用
收藏
页码：207 / 229
页数：23
相关论文