EFFECT OF SEMICONDUCTOR THICKNESS ON CAPACITANCE-VOLTAGE CHARACTERISTICS OF AN MOS CAPACITOR

被引:3
作者
NAGAI, K
HAYASHI, Y
机构
来源
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS | 1984年 / 23卷 / 12期
关键词
D O I
10.1143/JJAP.23.1659
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:1659 / 1660
页数:2
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共 1 条
  • [1] NICOLLIAN EH, 1982, MOS PHYSICS TECHNOLO, P54