OPTIMIZATION OF SEMICONDUCTOR FILM THICKNESS IN LIGHT-CONTROLLED MICROSTRIP DEVICES

被引：7

作者：

PLATTE, W ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV ERLANGEN NURNBERG,INST HOCH FREQUENZ TECH,D-8520 ERLANGEN,FED REP GER

来源：

SOLID-STATE ELECTRONICS | 1977年 / 20卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1016/0038-1101(77)90034-X

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页码：57 / 60

页数：4

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