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HIGH RESISTIVITY SPUTTERED TANTALUM FILMS FOR MICROELECTRONIC APPLICATIONS
被引：5
作者：
KRIKORIA.E
BERSON, BE
机构：
来源：
PROCEEDINGS OF THE INSTITUTE OF ELECTRICAL AND ELECTRONICS ENGINEERS
|
1965年
/
53卷
/
12期
关键词：
D O I：
10.1109/PROC.1965.4546
中图分类号：
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ;
0809 ;
摘要：
引用
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页码：2164 / &
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