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CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PHOSPHORUS NITRIDE AND RELATED-COMPOUNDS

被引：16
作者：
FURUKAWA, Y
机构：
来源：
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS | 1984年 / 23卷 / 08期
关键词：
D O I：
10.1143/JJAP.23.1157
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
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页码：1157 / 1158
页数：2
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共 3 条
[1]   CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF INSULATING FILMS USING NITROGEN TRIFLUORIDE [J].
FURUKAWA, Y .
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 1984, 23 (03) :376-377
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