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METALORGANIC CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF HIGH-QUALITY GAAS AND ALGAAS USING TERTIARYBUTYLARSINE
被引：8
作者：
HAACKE, G
WATKINS, SP
BURKHARD, H
CALBICK, CJ
QUICK, J
机构：
来源：
III-V HETEROSTRUCTURES FOR ELECTRONIC / PHOTONIC DEVICES
|
1989年
/
145卷
关键词：
D O I：
10.1557/PROC-145-217
中图分类号：
O7 [晶体学];
学科分类号：
0702 ;
070205 ;
0703 ;
080501 ;
摘要：
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页码：217 / 222
页数：6
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