THRESHOLD VOLTAGE FOR DAMAGE IN SI UNDER ELECTRON-BOMBARDMENT

被引：5

作者：

FRASER, HL

机构：

[1] UNIV ILLINOIS,DEPT MET & MINING ENGN,URBANA,IL 61801

[2] UNIV ILLINOIS,MAT RES LAB,URBANA,IL 61801

来源：

SCRIPTA METALLURGICA | 1977年 / 11卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1016/0036-9748(77)90011-4

中图分类号：

TF [冶金工业];

学科分类号：

0806 ;

摘要：

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共 4 条

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